裸銅絲對(duì)比與鋁線的優(yōu)勢(shì)
正據(jù)美國Physics Today,1999,52:9報(bào)道,美國勞倫斯伯克利國家實(shí)驗(yàn)室的科學(xué)家蒙蒂羅(O.Monteiro),成功地在集成電路上沉積了銅線,這有利于集成電路的更加小型化和低能耗化。集成電路中成千上萬的晶體管是通過導(dǎo)線連接的,而這些導(dǎo)線是在預(yù)先刻蝕好的槽中沉積金屬鋁得到的。與鋁相比,銅的優(yōu)點(diǎn)是更低的電阻率,這使導(dǎo)線更精細(xì)化,進(jìn)而使集成電路更小型化。
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